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激光晶体关于脉冲激光的沉积原理简介
点击次数：1916 更新时间：2023-01-05
Ti激光晶体是一种广泛使用的过渡金属掺杂的激光晶体。由于Ti3+离子具有非常大的增益带宽，这为获得短脉冲激光器中实现的非常宽的波长可调性提供了可能性。为了获得具有良好光学质量的晶体，Ti3+掺杂浓度不应超过0.25％。因此必须使用厚度为几毫米的晶体。晶体的特征在于较短的高态寿命和高饱和功率。因此，必须强烈集中使用泵浦光束。
该晶体的主要特点有优良的导热性、宽增益带宽、多种可能的泵浦波长（通常为532 nm），可根据要求提供定制晶体。主要应用于具有超短脉冲的锁模激光器以及多通放大器和再生放大器。
激光晶体中脉冲激光的沉积原理说明：
准分子激光器发射ns级激光脉冲，其被透镜汇聚后聚焦于靶材表面。瞬间的高能输入产生定向发射的等离子体，并沉积在基片表面。在激光作用的同时，可选择加热衬底，调节气氛及真空度以调控生长情况。
主要特点：
1.因脉冲激光作用区内温度瞬间急剧上升，使材料发生高度电离，终以等离子体向外喷发；因这一过程时间极短，不会在靶材内出现由长时间热作用导致的热损伤。
2.材料对入射激光进行多光子吸收，吸收过程只依赖于材料中的原子特性。
3.因等离子体的逆韧致吸收效应，激光能量的绝大多数为等离子层吸收。
