磁控溅射镀膜超窄带滤光片

656nm磁控溅射镀膜超窄带滤光片

溅射镀膜是在真空条件下，利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子在基片上沉积的技术。溅射镀膜具有膜层和基体的附着力强，膜层均匀性好等优点，适合各种金属、氧化物、半导体薄膜的制备，广泛应用于光伏、LED、微电子、硬质薄膜等领域。

一般情况下，绝大多数超窄带滤光片，带宽＜2nm成品率较低，价格也较高，2-5nm的带宽为绝大多数超窄带滤光片工业用户的批量采购选择。

超窄带滤光片其主要参数有：中心波长、半高宽（带宽）、峰值透过率、截止范围、截止深度（OD值）

中心波长：一般就是仪器或设备的工作波长，它是指通带中心位置的波长。

半高宽（带宽）：带宽是指通带中透过率为峰值透过率的一半的两个位置之间的距离，有时也叫半高宽（不叫半带宽），英文字母经常用FWHM（Full Width at Half Maximum）表示。

峰值透过率：指带通滤光片在通带中zui高的透过率大小。

截止范围：截止范围是指除了通带以外，要求截止的波长范围。对于窄带来说，有一段是前截止，就是截止波长小于中心波长的一段，还有一段长截止，截止波长高于中心波长的那一段。

截止深度（OD值）：截止深度是指截止带中允许能透过光的大透过率大小。对不同的应用系统对截止深度要求不同，比如对于使用在激发光荧光的场合，一般要求截止深度在T<0.001%以下，在普通的监控识别系统中，截止深度T<0.5%有时已经足够。为简便起见，经常用OD值来表示截止深度。OD=-lgT

用途：机器视觉、生化分析、光学仪器、光谱测量等领域

类型：一般瑞研光学可做200nm-2000nm以内的任意个波长，透过率大于70%以上，如果是磁控溅射镀膜，透过率大于90%；

截止深度有OD4-OD6；大于OD6成品率较低，可提供小批量定制服务

中心波长656nm

中心波长偏差：±1nm

带宽2nm；3nm；4nm；5nm

直径12.7mm，12.5mm，25mm，30mm等

厚度1mm；2mm；2.5mm

外环封装厚度3.5mm，5mm，6mm

透过率大于80%；大于90%

截止范围200-800nm；200-1000nm；200-1200nm

截止深度大于OD4；大于OD5；＞OD6

典型超窄带光谱曲线